Dalam metode top-down nanoteknologi, teknik yang paling sering digunakan adalah nanolithography, khususnya photolithography.
Nanolithography adalah proses pembuatan pola pada skala nanometer dengan cara mencetak, menulis, atau mengukir pola pada permukaan material. Teknik ini sangat penting dalam pembuatan sirkuit terpadu dan komponen nano lainnya. Photolithography, sebagai salah satu teknik utama dalam nanolithography, menggunakan cahaya untuk memindahkan pola dari cetakan ke permukaan bahan, memungkinkan produksi struktur dengan resolusi hingga 50 nm. Metode ini banyak digunakan dalam industri semikonduktor karena efisiensinya dan kemampuannya untuk menghasilkan banyak chip secara bersamaan.
Keunggulan dari teknik ini termasuk throughput tinggi dan kemampuan untuk menghasilkan fitur kecil yang diperlukan untuk perangkat elektronik modern. Namun, tantangan yang dihadapi termasuk kebutuhan akan sumber cahaya dengan panjang gelombang yang lebih pendek untuk mencapai resolusi yang lebih tinggi .