Dalam metode top-down dalam nanoteknologi, salah satu teknik yang paling sering digunakan adalah lithography, khususnya photolithography.
Penjelasan Singkat tentang Photolithography
Photolithography adalah proses yang digunakan untuk memproduksi pola pada permukaan material dengan menggunakan cahaya. Proses ini melibatkan beberapa langkah:
- Penerapan Fotoresist: Lapisan fotoresist, yaitu bahan sensitif cahaya, diterapkan pada permukaan substrat.
- Pencahayaan: Substrat yang telah dilapisi fotoresist kemudian terkena cahaya ultraviolet (UV) melalui masker yang memiliki pola tertentu. Cahaya UV akan mengubah sifat kimia fotoresist di area yang terkena cahaya.
- Pengembangan: Setelah pencahayaan, substrat dicuci dengan larutan pengembang yang menghilangkan bagian fotoresist yang telah terpapar cahaya, meninggalkan pola yang diinginkan pada substrat.
- Etching: Pola yang terbentuk kemudian dapat digunakan sebagai template untuk proses etching, di mana material di bawah fotoresist dihilangkan untuk membentuk struktur nano.
Alasan Mengapa Photolithography Sering Digunakan
- Akurasi Tinggi: Photolithography memungkinkan pembuatan pola dengan resolusi tinggi, penting untuk aplikasi dalam sirkuit terpadu dan perangkat nano.
- Skalabilitas: Metode ini dapat diterapkan pada skala besar, memungkinkan produksi massal dari perangkat nano.
- Fleksibilitas Material: Photolithography dapat digunakan pada berbagai jenis material, termasuk silikon dan polimer, membuatnya sangat serbaguna dalam aplikasi nanoteknologi.