Dalam metode top-down, photolithography adalah salah satu teknik yang paling sering digunakan, terutama dalam pembuatan struktur mikro dan nano di bidang fabrikasi semikonduktor. Proses ini dimulai dengan lapisan material tipis yang disalutkan pada substrat, kemudian pola diukir pada permukaan material menggunakan cahaya ultraviolet (UV) yang diproyeksikan melalui masker. Setelah paparan, proses kimia seperti pengembangan dan etsa digunakan untuk menghilangkan bagian material yang tidak terpapar cahaya, sehingga membentuk pola yang diinginkan. Photolithography banyak digunakan dalam industri semikonduktor untuk pembuatan sirkuit terpadu (IC) dan komponen mikroelektronik lainnya.